【大纪元2017年09月07日讯】记忆体大厂台湾美光科技何姓、王姓二名主管，盗取公司机密技术投靠联电，联电戎姓高阶主管涉指示用于和中国福建省晋华科技合作开发的DRAM设计内。经台湾美光向检方报案，台中地检署9月6日起诉何姓男子等3人与联电。
联华电子股份有限公司发布重大讯息表示，待收到后起诉书后，将配合司法程序，委请律师处理。台中地检署起诉书指出，何姓男子与王姓男子原为瑞晶电子公司员工，分别担任量产整合部课长和品质工程部副理。
2013年于美国美光科技公司收购瑞晶后，更名为台湾美光公司。2016年1月间，联电与中国晋华公司合作，协议进行32奈米与32S奈米动态随机存取记忆体（DRAM）制程开发，而何姓男子2015年10月自台湾美光离职，同年11月到联电任职；王姓男子则在2016年3月到联电任职。
据中央社报导，何男涉嫌利用先前在美光公司权限复制的营业机密资料，带到联电办公室内使用，帮联电与晋华在中国地区量产DRAM晶圆。王男则是带原先在美光公司取得的DRAM晶圆制造方法、技术、制程设计等电磁资料到联电，由戎姓男子加速设计制程规则。
台湾美光在王姓男子离职后，经内部调查发现王姓男子涉嫌擅自重制电磁纪录，携往联电使用。经搜证后提告，经台中地院核发搜索票，调查官今年2月前往联电台南厂搜索。
联电得知检调前往搜索通知戎姓男子，戎男却通知何姓与王姓男子速删除来自台湾美光公司资料。何姓与王姓男子向检警供称，带走的资料只供个人研究；戎姓男子则辩称只提供王姓男子制程设计意见，但检方不采信。
台中地检署侦结，依违反营业秘密法、著作权法起诉何姓男子、王姓男子、戎姓男子与联电。
责任编辑：钟元
