中共绕道找日企开发芯片设备 分析:困难重重

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【大纪元2020年10月15日讯】(大纪元记者张玉洁综合报导)近日有消息说,中共为避开美国的制裁和荷兰厂家的脱钩,计划投资两家日本企业,生产芯片设备。分析认为,大陆企业在自身芯片技术落后的情况下,短期内很难与外企合作研发光刻机。

《日经新闻》引述业界知情人士的消息说,在得不到荷兰阿斯麦尔公司(ASML)极紫外(EUV)光刻机的情况下,大陆企业计划绕道投资日本尼康(Nikon)和佳能(Canon)两家公司 ,研发EUV光刻机之外的其它光刻设备。

目前,全球EUV光刻机领域只有荷兰ASML一家公司具备生产能力。荷兰政府今年1月份根据瓦森纳国际协议,叫停ASML向大陆出口EUV光刻机。

报导引述分析表示,全球最大芯片代工厂台积电从7奈米加强版芯片才开始使用EUV光刻机,但过程中,台积电与ASML经过了10年以上的合作与协调才能成功导入EUV,中国(中共)砸钱与日企合作研发光刻机,短期内困难重重。

据悉,目前大陆的最高芯片技术是14奈米制程。

分析认为,至于半导体生产中关键的软件部分,有国际电子设计自动化(EDA)大厂指出,EDA的关键不在于半导体生产的相关参数,而在于其中都有专利布局的各项算法,这方面大陆厂商很难突破。

今年9月15日,美国政府启动了对华为的芯片禁令,因华为具有中共军方背景并且偷窃商业和个人资料,禁令要求全球使用美国技术和设备的企业在向华为供货前,必须得到美国政府的许可。

中共高调称要在未来5年内投资9.5万亿自主研发芯片,自主生产芯片设备

9月末曾有署名为ASML公司华裔工程师的人士发文表示,大陆企业无法生产用于制造光刻机的基础器件,没有基础器件,说造光刻机就是天方夜谭;台积电是使用光刻机,而大陆半导体企业与台积电的差距非常大,谈不上制造光刻机。

责任编辑:李穹#

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