【大纪元2020年10月15日讯】（大纪元记者张玉洁综合报导）近日有消息说，中共为避开美国的制裁和荷兰厂家的脱钩，计划投资两家日本企业，生产芯片设备。分析认为，大陆企业在自身芯片技术落后的情况下，短期内很难与外企合作研发光刻机。
《日经新闻》引述业界知情人士的消息说，在得不到荷兰阿斯麦尔公司（ASML）极紫外（EUV）光刻机的情况下，大陆企业计划绕道投资日本尼康（Nikon）和佳能（Canon）两家公司 ，研发EUV光刻机之外的其它光刻设备。
目前，全球EUV光刻机领域只有荷兰ASML一家公司具备生产能力。荷兰政府今年1月份根据瓦森纳国际协议，叫停ASML向大陆出口EUV光刻机。
报导引述分析表示，全球最大芯片代工厂台积电从7奈米加强版芯片才开始使用EUV光刻机，但过程中，台积电与ASML经过了10年以上的合作与协调才能成功导入EUV，中国（中共）砸钱与日企合作研发光刻机，短期内困难重重。
据悉，目前大陆的最高芯片技术是14奈米制程。
分析认为，至于半导体生产中关键的软件部分，有国际电子设计自动化（EDA）大厂指出，EDA的关键不在于半导体生产的相关参数，而在于其中都有专利布局的各项算法，这方面大陆厂商很难突破。
今年9月15日，美国政府启动了对华为的芯片禁令，因华为具有中共军方背景并且偷窃商业和个人资料，禁令要求全球使用美国技术和设备的企业在向华为供货前，必须得到美国政府的许可。
中共高调称要在未来5年内投资9.5万亿自主研发芯片，自主生产芯片设备。
9月末曾有署名为ASML公司华裔工程师的人士发文表示，大陆企业无法生产用于制造光刻机的基础器件，没有基础器件，说造光刻机就是天方夜谭；台积电是使用光刻机，而大陆半导体企业与台积电的差距非常大，谈不上制造光刻机。
责任编辑：李穹#
