【大纪元2022年06月29日讯】（大纪元记者郑琦台湾台北报导）媒体报导，国教院的双语词汇资讯网将“photolithography”翻译成“光刻”，疑是中国用法。国教院则澄清，我国是沿用民国87年的翻译定稿，应早于中国使用此名词，但既然有人提出，就会提交资通辞典委员会讨论。
《自由时报》29日报导，国家教育研究院的双语词汇、学术名词暨辞书资讯网中，将半导体产业最昂贵的极紫外光（EUV）曝光机，翻译成“光刻”机，并非台湾惯称的“曝光”机，而是中国用法。
据中央社报导，查询上述网站，并输入Extreme ultraviolet lithography（EUV）有2笔结果，一笔是电子工程学术名词，翻译成“极紫外微影术；极紫外光刻”；另一笔则是电子计算机名词，翻译成“超紫外线平版印刷术”。
如果输入photolithography有57笔结果，多数都翻成“光刻”；直接输入中文“曝光机”有7笔结果，例如deep ultraviolet exposure machine翻译成“深紫外线曝光机 ”。
国家教育研究院语文教育及编译研究中心主任林庆隆受访表示，photolithography翻译成“光刻”，是沿用自民国87年由国立编译馆出版的《电子计算机名词》，应早于中国晚近相关技术的用法。当时邀集多名学者专家组成审查委员会，从81年开始讨论到87年成书，共开了164次会议，相当慎重。
不过林庆隆说，既然有人提出质疑，就会提交资通辞典委员会进一步讨论。国教院相关辞典都会定期由委员编修，毕竟科学技术不断发展，部分名词的翻译习惯也可能改变。
林庆隆表示，如果是新旧用法的改变，一般来说会采并列方式，以目前学术界普遍用法为主。他强调，翻译学术名词的重点是信、达、雅，正确和精准是最重要的，但各界意见不一时，就须在委员会中寻求共识。
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