【大紀元9月21日報導】(中央社記者張良知台北二十一日電)台灣積體電路製造公司研發團隊今天以領先的浸潤式曝影(immersionlithography)技術，成功產出90奈米晶片及在65奈米與更先進製程技術領域開發的成就，榮獲經濟部工業局第一屆「奈米產業科技菁英獎」。
台積電表示，此一獎項是政府為提昇台灣奈米技術創新及推動奈米技術產業化的落實而舉辦，評審團一致認為台積電公司在電子奈米技術的研究發展及成果，對國家半導體產業及經濟均有重大貢獻，足以作為產業典範。
此次在經濟部工業局公佈的得獎事蹟中指出，台積電公司突破全球半導體業的技術瓶頸，創新使用以水為介質的193奈米波長曝光機 (浸潤式曝影技術)，成功產出90奈米晶片，而此一技術不久後即可邁入量產階段。
台積電更進一步確認可延續193奈米波長曝光機的影像解析能力至32奈米製程，在延伸摩爾定律上，具有指標性的意義，為全球半導體業的重要成就。
台積公司也使用65奈米製程技術，成功試產出晶片並致力於投入更先進之奈米製程技術的開發，除了對台灣電子奈米技術發展有傑出貢獻，並更進一步強化台灣在世界電子產業的國際地位。
