张忠谋：台积电前途非常乐观

【大纪元6月11日报导】（中央社记者张建中新竹11日电）晶圆代工龙头台积电董事长暨总执行长张忠谋今天表示，台积电拓展尖端技术与引领创新动能，已站在绝佳位置，对台积电前途非常乐观。

台积电今天召开股东常会，张忠谋亲自主持。

张忠谋指出，台积电20奈米制程与16奈米鳍形场效电晶体(FinFET)制程，是目前晶圆代工或整个半导体业最先进的制程技术。

张忠谋说，民国101年11月台积电开始采用20奈米系统单晶片制程技术为客户生产测试晶片，预计103年正式导入量产。

台积电101年完成16奈米FinFET制程定义后即进行开发，预计在20奈米制程推出1年后，16奈米FinFET制程技术将导入试产。

张忠谋同时表示，台积电采用多重曝光显影机台的10奈米制程前导作业也已经起步。

随着先进制程对制造技术的精准要求，张忠谋指出，台积电开放的设计生态系统“开放创新平台”(OIP)，有助客户完成从开发、提出解决方案至最后产品验证的整个设计流程。

张忠谋说，OIP不仅是台积电重要的竞争利器，也是台积电上下游大联盟重要的一环。

张忠谋表示，台积电将致力成为全球逻辑积体电路产业中，长期且值得信赖的技术及产能提供者，对台积电前途非常乐观。