力晶茂德:尽速提出0.18微米制程登陆申请

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【大纪元12月29日报导】(中央社记者张建中新竹二十九日电)台湾经济部投资审议委员会今天决定,将现行准许赴大陆投资的8吋晶圆制程技术,由0.25微米放宽至0.18微米;对此,力晶半导体公司及茂德科技二家厂商均表示欢迎,并将尽速提出申请。

力晶发言人谭仲民表示,公司将尽速提出申请赴大陆投资0.18微米制程;只是大陆设厂计划,公司仍在评估赴大陆生产的产品线,待产品线决定后,才会进一步敲定设厂地点。

茂德副总彭卓兰说,政府开放赴大陆投资0.18微米制程技术,公司将会依规定尽速提出申请,预期将有助于提升公司未来在大陆市场的竞争力。

彭卓兰表示,重庆是茂德大陆设厂的首选地点,至于设厂时程,还有相关细节等问题,需与当地进行协商。

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