台积电英飞凌合作开发65奈米eFlash技术

【大纪元11月5日报导】(中央社记者张建中新竹5日电)台积电与英飞凌今天共同宣布，双方将针对下一代汽车、晶片卡及安全应用，扩大合作关系，共同开发及生产65奈米嵌入式快闪记忆体 (eFlash)制程技术。

台积电表示，与英飞凌在工业及有线通讯领域合作已长达10年以上，台积电 2年前开始以65奈米低功率技术为英飞凌生产行动装置应用产品；这次合作是进一步扩及车用电子及晶片卡领域。

台积电指出，在车用电子方面，65奈米eFlash技术能达成高度的功能整合，实现未来安全和排气标准中所要求的效能及功用。

至于晶片卡和安全应用方面，台积电表示，65奈米eFlash技术将能在智慧卡的外形尺寸外，以最佳的成本效能比达到适当的安全等级。

台积电指出，安全微控器的制程、产品验证及量产准备预计在2012年下半年完成，车用微控器的产品验证及生产预订在2013年上半年开始。