【大紀元5月25日報導】（中央社記者張榮祥台南縣二十五日電）台灣工業技術研究院今天在南部科學園區育成中心發表全球首見多工架構噴墨式值佈系統平台及多項光電子元件噴墨製程技術成果，並表示這項研究將使台灣光罩每年消耗成本減少逾新台幣百億元。
工研院指出，噴墨製程技術與植佈系統平台，是當前產業間最先進的製程與設備，全球各大廠也競相投入，藉以取代傳統光罩及塗佈製程，應用範圍涵蓋電子、光電、材料、設備及生醫領域。
工研院完成多工架構噴墨式值佈系統平台及彩色濾光片、配向膜、液晶塗佈、有機發光顯示器、有機薄膜電晶體、系統構裝、電路基板等多項光電子元件噴墨製程技術，將建立台灣業界軟性電子產業的技術根基，包括光電及半導體。
工研院表示，這一技術曝光後，將可取代傳統黃光製程，以目前標準五代光罩製程而言，使用噴墨製程技術將可減少無塵室使用空間百分之三十，降低設備成本百分之二十，廠商每一條生產線每年消耗成本減少二千萬元美金。
工研院預估一年可推出數百部噴墨式值佈系統平台設備，工研院也正和台灣廠商接洽，且已推出一套系統供應給台灣一家廠商，反應很好。
工研院這項研究中的平台技術，去年底已在台北發表，這次發表的範圍更精細，應用範圍更廣；今天在南科育成中心的發表說明會，遍邀南科光電、半導體及材料廠商與會。
