報告﹕綠卡路太長 技術移民或選擇回國

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【大紀元8月24日訊】(大紀元記者秦飛編譯報導)由杜克大學、紐約大學及哈佛大學合作、庫富曼基金會 (Ewing Marion Kauffman Foundation)本週三發佈的一項研究報告顯示,每年美國有超過一百萬名技術移民——包括來自印度和中國的科學家及工程師——和他們的家人為十二萬份綠卡配額而奮戰。這一比例的失衡導致了「逆向人才流失」,大量技術移民選擇返回祖國。

綠卡路太長選擇回國

這一研究報告是一系列關注移民對美國經濟的貢獻及競爭力研究的第三部份。報告指出,技術移民「人才流失」已變得更為嚴重,因為美國目前給每個國家的工作簽證配額平均在每年一萬個以下,而排隊時間則長達幾年。

在這項名為 「知識產權,移民問題積壓及逆向人才流失」的報告中,有一個重要發現﹕等待簽證的技術員工人數遠遠高於可進入美國的人數。這一比例失衡導致了技術員工選擇返回母國、導致逆向人才流失的可能。

「美國受益於這些外來者的創新」, 杜克大學普瑞特工程學院駐校學者沃德瓦(Vivek Wadhwa)說。「當外國人來到美國,與美國人合作進行發展和創新,並把這些創新用於在自己母國沒有機會實現的實踐中,整個世界都因此獲利。」

根據「新移民調查」(New Immigrant Survey)的數據顯示,2003年約五分之一的新合法移民及約三分之一的工作簽證移民計劃離開美國或不確定是否留下。調查作者沒有數據可以具體顯示多少外國公民已返回祖國。

外國人專利申請件數比例大幅上升

根據世界知識產權組織(World Intellectual Property Organization ,簡稱WIPO)的數據分析,顯示了外國人在美國國際專利申請件數的比例從1998年的約7.3%上升到2006年的24.2%。最大的外國人團體為中國(大陸及臺灣),其次為印度,加拿大和英國。

這一報告中的其它重要發現還包括:

——2006年美國遞交的國際專利申請中定居美國的外國公民被命名為「發明者」或「合作發明者」的比例為25.6%。遠高於1998年的7.6%。

——由大型跨國公司遞交的國際專利申請中,有一半以上是由外國人完成的,其中包括高通(Qualcomm)(72 %),默克( Merck ). (65 %), 奇異( General Electric )(64 %), 西門子(63 %) 和思科公司 (60 %)。而美國政府遞交的專利申請中則有41%是由外國人擔任發明者或合作發明者。

——2006年美國的國際專利申請中,16.8%的發明者或共同發明者為華裔,高於1998年的11.2%。印度裔發明者的專利申請從同期的9.5% 上升至13.7%。

完整報告可察看庫富曼基金會的網站,網址為:www.kauffman.org。

新聞來源:杜克大學新聞稿

(http://www.dajiyuan.com)

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