【大纪元1月1日报导】（中央社记者刘嘉韵台北一日电）国立中正大学物理研究所教授许佳振与两名研究生的专题“新型压印微结构制程”，参加二零零五年影像显示专题实作竞赛暨友达奖，从三十一支参赛队伍脱颖而出，获得佳作成绩与新台币二十万元奖励。
国立中正大学发布新闻表示，由教育部影像显示科技人才培育计划推动办公室与友达光电公司合办的第一届友达奖，是台湾学界与平面显示器产业界合作办理的重要学术奖项，去年底宣布得奖名单，许佳振指导两研究生巫晟逸、江定轩的新型压印微结构制程专题，打败其他队伍，脱颖而出。
中正大学指出，目前市面上生产背光模组中的扩散膜，是将微粒子与树酯混和剂涂布于基板上，利用微粒子的散射特性达到光源扩散的效果，但这项方法，无法解决光源分布不均匀的问题。
“新型压印微结构制程”，则利用不同大小的半球型凸起微结构的特性，控制光源扩散的均匀强度，此外，这项制程还可以大量减少传统制程所需时间与金钱，大幅提升生产效率。
中正大学指出，许佳振领军的实验室，除了在友达奖打败三十一支参赛队伍，脱颖而出外，还曾获得“二零零四年大专生参与专题研究计划专题奖”、“二零零五年台湾光电科技研讨会学生论文奖”，也获得“二零零五年教育部菁英留学专案”留学计划补助名额，研究成果相当丰硕亮眼。
