【大纪元4月1日报导】(中央社记者张建中新竹一日电)英特尔 (Intel)将于中国大连设立12吋晶圆厂，并采用90奈米制程技术，反观台积电中国松江厂目前仅获准生产0.18微米制程，台积电董事长张忠谋相当忧心台湾半导体业未来竞争优势丧失；国内半导体业者盼政府两岸政策能更具弹性。
工研院也建议政府政策应改采积极作为，鼓励业者研发先进制程技术以换取登陆投资。
台积电向政府提出申请赴中国投资0.18微米制程长达2年多后，今年3月终于获准放行，业界普遍拍手叫好，台积电松江厂制程技术提升至0.18微米后，可望瓜分中心0.18微米制程主力产品市场，进而挑战中芯中国晶圆代工龙头宝座。
但是英特尔决定前进大连设立12吋晶圆厂，并以90奈米制程技术投入生产，让台积电备感威胁；台积电董事长张忠谋曾公开表示，虽然英特尔中国12吋厂需时2至3年才可望生产，短期对台积电直接影响有限，不过，英特尔目前决定将以90奈米制程技术切入生产，领先台积电松江厂2个世代制程技术。
值得注意的是，英特尔大连厂未来还将生产比最先端技术晚1至2个世代的制程技术，张忠谋指出，由此推估，2年后英特尔先端技术可望推进至32奈米制程，届时英特尔中国12吋厂则将推进至65奈米制程。
张忠谋强调，中国并不会因为台湾限制，就无法取得相关半导体设备技术，如今英特尔决定前往中国设厂，若台湾政府对赴中国投资限制不再松绑，未来国内厂商的中国厂制程技术恐将无法避免大幅落后英特尔。
茂德副总经理兼发言人曾邦助也表示，政府对制程技术限制愈少，厂商能够生产的产品愈多，竞争力也愈强，更具弹性的两岸政策，更能符合实际市场状况、满足业者需求。
工研院经济与资讯服务中心(IEK)产业分析师简志胜则指出，政府现行赴中国投资限制的政策思维，主要是考量防止技术外流，及国内投资减少会影响就业，但现今中国取得先进技术已不是问题，消极的防止技术外流措施，反而限制产业的竞争力，政府的两岸投资政策应改采积极作为。
简志胜建议，政府应鼓励业者研发先进制程技术以换取登陆投资；若厂商的先进技术在台湾量产达一定规模，只要简易审议下便可通过其落后2个世代的制程登陆，即45奈米量产的业者，才能赴中国投资90奈米，且登陆设厂的产能仍需受限制。
简志胜表示，由于先进制程投资较高，且登陆产能受规范，如此仍可确保厂商在台相对投资，与两岸生产比重不致失衡，兼顾厂商全球竞争力及避免产业过度外移。
