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【大纪元1月6日讯】（大纪元记者杨文容台湾台北报导）台积公司降低功耗的技术与服务获得Tela Innovations公司独家专利授权，今（6）日宣布，65奈米低功耗制程的降低功耗（PowerTrim）技术获美商巨积公司（LSI Corporation）采用，能有效减少下一世代产品的总漏电耗能达25％以上。
台积公司表示，降低功耗的技术与服务，是将设计技术与先进半导体制程巧妙整和的创新技术，能有效降低每个产品的漏电耗能。藉由降低功耗软体（PowerTrim Software）分析公司的设计，并微调闸极长度，能够有效节能而不影响任何晶片尺寸或性能。
巨积公司产品及测试工程暨网路元件处处长Norm Lawrence表示，低功耗与高效能是产品成功的关键，藉由和台积公司密切的合作并采用Tela Innovations的降低功耗技术，产品减少了超过25％的漏电耗能，有效改善漏电的良率分布。
台积公司设计建构行销处资深处长庄少特表示，协助客户提高产品的竞争优势，是台积公司创立开放创新平台的主要目标之一；提供客户具有差异化价值的服务，是建构开放创新平台背后的核心目标。很高兴巨积公司选用台积公司的降低功耗服务，并有效达到降低漏电功耗的成果。
台积公司降低功耗服务可与其他降低漏电的技术如multi-Vt cell libraries, reverse body biasing, header/footer sleep switches, and voltage islands等相容，可进一步减少漏电并强化节能效果，较临介高压电晶体的表现为佳。同时提供给采用先进制程技术（包括90奈米、80奈米、65奈米、及45奈米等）的客户使用。
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