【大纪元4月4日报导】(中央社记者何易霖新竹四日电)台湾工业技术研究院将在4月7日举行“半导体暨微电子专利专属授权”说明会，针对297件半导体专利及专属授权进行分析与说明。这是继专属授权TTLA（薄膜电晶体液晶显示器产业协会）232件专利后，工研院首次进行的大型专利专属授权。
工研院表示，此次提供的297件专利是半导体界的精华专利，包括元件/制程模组、化学机械研磨、平坦化、金氧半电晶体、记忆体、黄光、薄膜制程、双极性接面电晶体/功率元件等组合。
专利涵盖地区部分，则有中华民国、美国、日本及韩国，部分项目同时是基础型专利，曾被国内外半导体大厂专利引证次数超过2500次以上。
工研院技转中心主任许友耕表示，过去工研院以“非专属授权”模式扶植厂商，如笔记型电脑专利一口气 授权40多家厂商，让台湾笔记型电脑产业迅速发展，但也因此造成业界彼此削价竞争，因此工研院未来将选择 性授权，提升厂商竞争力，以维持良性竞争环境。
许友耕指出，台湾厂商若能获得这批专利专属授权，象征立即拥有与国际半导体大厂抗衡的能力，有助提 升专利竞争优势，未来这些专利可用来制造、销售、再授权、诉讼、反诉讼、与竞争对手交互授权或技术作价增资，都具有极高的价值。
许友耕说，这场专利专属授权说明会将在4月7日于 工研院竹东中兴院区举行，欢迎实收资本额在新台币1 亿元以上的半导体、薄膜相关制造及设计行业前来了解，进行投标，得标厂商将可获得专属授权至专利权期限届满为止。
除了这次的专属授权外，工研院今年将陆续进行专属授权推广活动，规划中包括有机电激发光元件、绘图系统架构技术、光学文字辨识、多重处理机架构技术及静电放电防护技术等领域。
