【大纪元7月4日报导】（中央社记者杨明珠东京4日专电）“日本经济新闻”今天报导，日本半导体大厂尔必达（Elpida）快则本月将与台湾3家动态随机存取记忆体（DRAM）大厂合作，利用小型技术生产DRAM，降低成本，对抗南韩2大厂。
报导说，尔比达快则本月中旬与台湾的茂德科技、瑞晶电子、力晶半导体公司合作，以独自的小型化技术生产DRAM。这可利用既有的设备，降低投资金额。
尔必达将提供先进的量产DRAM新技术给这3家台湾公司，制造用于电脑或服务器的产品。借此可压低成本，提升竞争力，急起直追南韩的三星电子（Samsung）及海力士半导体 （Hynix Semiconductor）公司。
开发的超小型DRAM是在设计和生产制程上经过特别考量，可将晶片小型化是一大特色。从1片硅晶圆可产出的晶片数量将比向来的数量增加25%。
尔必达以委托生产的方式提供了小型化技术给瑞晶电子、茂德科技、力晶半导体公司，不需要投入钜额资金去缩小回路宽度。尔必达及台湾3厂只要将目前主力的回路宽度65奈米的生产线进行小规模改造即可。
尔必达位于东广岛市的广岛厂与委托台湾3家公司的产量总计每月约生产12吋晶圆30万片，当中有6成约相当于18万片将转为生产超小型的DRAM。
尔必达计划本年度将进行大约1150亿日圆（约新台币421亿元）的设备投资，扩大生产回路宽度40奈米的世界最尖端DRAM。
