晶片中心:台湾IC设计制程仍有提升空间

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【大纪元3月1日报导】(中央社记者何易霖新竹一日电)工业技术研究院晶片中心主任任建葳表示,台湾半导体晶圆代工制程技术独步全球,已达90奈米及更先进水准,不过IC设计业普遍以0.18微米制程为主流,技术层次与欧美国家相较落后约1至1.5个世代,仍有很大的发展空间。

任建葳指出,台积电及联电技术层次已迈入90奈米世代,在全球晶圆代工产业傲视其他竞争对手,然而本土的先进晶圆代工技术,往往接的都是国外IDM或IC设计厂商订单,台湾IC厂商仍停留在0.18微米制程为主力的阶段。
根据美商Synopsys近两年针对台湾、美国及欧洲三地IC设计商制程使用分布统计,2003年美国与欧洲IC设计商使用0.13微米制程比重分别为55%及43%,台湾仅为4%;2004年美国由55%下降至52%,欧洲与2003年持平,台湾则上升至13%。
此外,以去年的数据分析,美国业者去年90奈米应用已达20%,0.18微米以上制程技术比重小于2成;欧洲90奈米应用约21%,0.18微米以上制程技术约3成;唯独台湾IC设计业者在90奈米制程应用仍趋近于0,0.18 微米制程技术比重却占了85%以上。

相形之下,在欧美厂商已逐渐从0.13微米进入90奈米世代的同时,台湾IC设计商才逐渐要从0.18微米迈向0.13 微米,技术层次仍有提升空间。

任建葳强调,高阶制程往往应用于较为先进,且利基性较强的产品,例如通讯及高阶电脑相关晶片,台湾目前IC设计市占率虽为全球第二,但面临韩国、中国等厂商急起直追的激烈竞争,台湾IC设计商应抓紧本土的晶圆代工制程技术优势,在制程技术上力求突破,才能维持竞争力。

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