【大紀元8月23日訊】來自哈佛、杜克和紐約大學的研究人員22日發表一項對國際專利申請的分析，他們警告若不進行移民改革，高科技人才移民申請美國簽證受限制，將迫使這些人離開美國，從而使美國的競爭力將到受影響。
據美聯社報導， 一項調查顯示，美國呈現「逆向人才外流」(reverse brain drain)的局勢。在過去的10年裡，住在美國的外國人提出的專利申請增長到兩倍多，但由於簽證的上限使得不少企業家被迫回到原來國家，在中國、印度或其它國家成立與美國相競爭的公司。
為瞭解和確定有多少高科技人才在提出申請時，在美國但沒有美國國籍或永久居留權。 作為此項調查的主要研究員，杜克和哈佛任工程與商業講師維外克．沃德瓦(Vivek Wadhwa)與同事建立了一個資料庫，收集從1998年到2006年向世界智能財產權組織(WIPO)提出申請的資料。
根據這個報告顯示，1998年從美國向WIPO申請專利的外國人為7.3%，到了2006年增加到兩倍以上，達到24.2%。
雖然WIPO沒有規定申請人列出國籍，但是研究人員閱讀每份申請文件後發現，提出申請的外國人中，住在美國有中文姓氏者從1998年的11.2%增加到2006年的16.8%。有印度姓氏者則從1998年的9.5%增加到2006年的13.7%。
主要研究員維外克．沃德瓦說：「我們吸引這些高科技人才來到美國，在這裡提供他們良好的企業培訓，幫助他們瞭解行銷，然而卻不能讓他們留下來，迫使他們回國，相反與我們競爭。企業流失人才，員工不滿、憤怒，結果的局面是兩邊都是損失。」
高技能員工的一種永久簽證EB每年名額為12萬120，一個國家的名額約為8400。研究警察告企業家擁有五年前並不存在的機會，而且他們祖國的住房費用較低，也更接近親戚。
外國人申請專利最多的地方是科技重鎮加州，佔了該州WIPO申請的三分之一，其它重要的州為麻州、紐約州、德州和新澤西州。
在科技先鋒公司Qualcomm和默克藥廠，外國人的專利申請佔了至少65%，美國政府機構的WIPO申請中，外國人佔了41% 。
雖然外國人的專利申請增加，但是美國卻沒有讓更多發明家留下來。維外克．沃德瓦反映硅谷員工的關注表示，美國應大幅增加高技能移民的永久居留簽證。
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