【大纪元8月23日讯】来自哈佛、杜克和纽约大学的研究人员22日发表一项对国际专利申请的分析，他们警告若不进行移民改革，高科技人才移民申请美国签证受限制，将迫使这些人离开美国，从而使美国的竞争力将到受影响。
据美联社报导， 一项调查显示，美国呈现“逆向人才外流”(reverse brain drain)的局势。在过去的10年里，住在美国的外国人提出的专利申请增长到两倍多，但由于签证的上限使得不少企业家被迫回到原来国家，在中国、印度或其它国家成立与美国相竞争的公司。
为了解和确定有多少高科技人才在提出申请时，在美国但没有美国国籍或永久居留权。 作为此项调查的主要研究员，杜克和哈佛任工程与商业讲师维外克．沃德瓦(Vivek Wadhwa)与同事建立了一个资料库，收集从1998年到2006年向世界智能财产权组织(WIPO)提出申请的资料。
根据这个报告显示，1998年从美国向WIPO申请专利的外国人为7.3%，到了2006年增加到两倍以上，达到24.2%。
虽然WIPO没有规定申请人列出国籍，但是研究人员阅读每份申请文件后发现，提出申请的外国人中，住在美国有中文姓氏者从1998年的11.2%增加到2006年的16.8%。有印度姓氏者则从1998年的9.5%增加到2006年的13.7%。
主要研究员维外克．沃德瓦说：“我们吸引这些高科技人才来到美国，在这里提供他们良好的企业培训，帮助他们了解行销，然而却不能让他们留下来，迫使他们回国，相反与我们竞争。企业流失人才，员工不满、愤怒，结果的局面是两边都是损失。”
高技能员工的一种永久签证EB每年名额为12万120，一个国家的名额约为8400。研究警察告企业家拥有五年前并不存在的机会，而且他们祖国的住房费用较低，也更接近亲戚。
外国人申请专利最多的地方是科技重镇加州，占了该州WIPO申请的三分之一，其它重要的州为麻州、纽约州、德州和新泽西州。
在科技先锋公司Qualcomm和默克药厂，外国人的专利申请占了至少65%，美国政府机构的WIPO申请中，外国人占了41% 。
虽然外国人的专利申请增加，但是美国却没有让更多发明家留下来。维外克．沃德瓦反映硅谷员工的关注表示，美国应大幅增加高技能移民的永久居留签证。
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