【大紀元2015年12月30日訊】根據國家科學基金會發布的消息，總統奧巴馬把今年最高榮譽的科學獎授予4名來自灣區的科學家。來自臺灣的胡正明是唯一上榜的華裔。另外三人則獲得國家科學獎章，他們分別是來自斯坦福大學的Albert Bandura和Stanley Falkow，勞倫斯.伯克利國家實驗室的Armand P. Alivisatos。奧巴馬在他的頒獎中寫道：「他們的工作成果是美國人民具有創造力的體現。」
胡正明1947年出生於北京荳芽菜胡同，在臺灣長大，後來考入加州大學伯克利分校。胡正明目前是加大伯克利分校電氣工程和計算機科學教授，1997年當選美國國家工程院院士。就在本月，他剛當選美國發明家學會（NAI，National Academy of Inventors）院士。胡正明獲得過很多獎項，這次他獲得了總統頒發的國家技術與革新獎章。
胡正明是微電子微型化和可靠性領域的主要開拓者，也是鰭式場效晶體管（FinFET）的發明者，如今三星、臺積電能做到14nm/16nm都依賴這項技術。
FinFET技術允許半導體工業生產更小更可靠和性能更高的集成電路。胡正明曾介紹，FinFET有兩個突破，一是把晶體做薄後解決了漏電問題，二是向上發展，晶片內構從水平變成垂直。他認為，FinFET的真正影響是打破原來英特爾對全世界宣布的將來半導體的限制，這項技術現在仍看不到極限。
責任編輯：盛源
